Effect of sputtering condition on electrical and optical properties of indium-tin oxide thin films

Indium-tin oxide (ITO) thin films were deposited by radio frequency (rf)-magnetron sputtering at different substrate temperatures and oxygen concentrations. Oxygen concentration affects significantly on the electrical and optical properties of ITO films. | Effect of sputtering condition on electrical and optical properties of indium-tin oxide thin films

Bấm vào đây để xem trước nội dung
TỪ KHÓA LIÊN QUAN
TÀI LIỆU MỚI ĐĂNG
119    129    1    01-05-2024
Đã phát hiện trình chặn quảng cáo AdBlock
Trang web này phụ thuộc vào doanh thu từ số lần hiển thị quảng cáo để tồn tại. Vui lòng tắt trình chặn quảng cáo của bạn hoặc tạm dừng tính năng chặn quảng cáo cho trang web này.