Ảnh hưởng của các tác nhân nền (NaCl, Na2SO4, NaAc) đến độ đệm và pH tạo kết tủa niken hidroxit (pHh) từ dung dịch mạ điện niken chứa glixin đã được nghiên cứu. Chứng minh được anion nền thông qua sự tạo phức với ion niken có thể đẩy vùng đệm cực đại của glixin về phía môi trường kiềm đồng thời làm tăng giới hạn pH làm việc bình thường của dung dịch mạ điện niken (pHh). | UED JOURNAL OF SOCIAL SCIENCES HUMANITIES AND EDUCATION 2013 NGHIÊN CỨU ẢNH HƯỞNG CỦA ANION NỀN ĐẾN ĐỘ ĐỆM VÀ PH TẠO KẾT TỦA HIDROXIT TỪ DUNG DỊCH MẠ ĐIỆN NIKEN CHỨA GLIXIN A STUDY ON THE INFLUENCE OF BACKGROUND ANIONS ON THE BUFFER CAPACITY AND PH OF HYDROXIDE PRECIPITATE FORMATION FROM BATHS OF GLYCINE- CONTAINING ELECTROLYTES FOR ELECTROPLATING NICKEL Vũ Thị Duyên Đinh Văn Tạc Trường Đại học Sư phạm Đại học Đà Nẵng Email dvt43cb@ TÓM TẮT Ảnh hưởng của các tác nhân nền NaCl Na2SO4 NaAc đến độ đệm và pH tạo kết tủa niken hidroxit pHh từ dung dịch mạ điện niken chứa glixin đã được nghiên cứu. Chứng minh được anion nền thông qua sự tạo phức với ion niken có thể đẩy vùng đệm cực đại của glixin về phía môi trường kiềm đồng thời làm tăng giới hạn pH làm việc bình thường của dung dịch mạ điện niken pH h . Trong trường hợp anion nền có tính chất đệm Ac- SO42- sự có mặt của chúng có thể dẫn đến việc xuất hiện độ đệm cực đại mới hoặc làm tăng đáng kể giá trị độ đệm cực đại của dung dịch chứa glixin. Xác định được bản chất hóa học của kết tủa tạo thành trong dung dịch mạ điện niken tại pH pHh. Chứng minh được khi tăng pH của dung dịch mạ điện niken đến giá trị pH pH h trong dung dịch hình thành kết tủa hidroxit Ni OH 2 hoặc muối bazơ Ni OH n SO4 xCl2-n-2x. Từ khóa độ đệm pH tạo kết tủa hidroxit dung dịch mạ điện niken chứa glixin anion nền ABSTRACT The influence of the background agents NaCl Na2SO4 NaAc on the buffer capacity and pH of nickel hydroxide precipitate formation pHh from baths of glycine-containing electrolytes for electroplating nickel was studied. It was shown that the background anions through complex formation with nickel ions can shift the position of the maximum buffer to the ankaline and increase the normal operating range for pH of glycine- containing electrolytes for electroplating nickel. When the background anions act as a buffer system Ac- SO42- their presence can lead to the appearance of a new maximum buffer or significantly .
