Luận văn Thạc sĩ Khoa học: Chế tạo màng mỏng Si3Nn4, SiO2 và màng treo Si3N4 bằng phương pháp lắng đọng hơi hóa học tăng cường plasma

Luận văn đã giới thiệu cấu trúc, tính chất và ứng dụng của màng mỏng Si3N4 và SiO2 cũng như màng treo Si3N4. Trình bày một số phương pháp chế tạo màng mỏng và màng treo đang được nghiên cứu. Thực nghiệm và các phương pháp nghiên cứu. Giới thiệu tổng quan về thiết bị sử dụng và trình bày quá trình chế tạo màng mỏng Si3N4 và SiO2, màng treo Si3N4 theo phương pháp lắng đọng hơi hóa học tăng cường plasma. |

Không thể tạo bản xem trước, hãy bấm tải xuống
TÀI LIỆU LIÊN QUAN
TỪ KHÓA LIÊN QUAN
TÀI LIỆU MỚI ĐĂNG
Đã phát hiện trình chặn quảng cáo AdBlock
Trang web này phụ thuộc vào doanh thu từ số lần hiển thị quảng cáo để tồn tại. Vui lòng tắt trình chặn quảng cáo của bạn hoặc tạm dừng tính năng chặn quảng cáo cho trang web này.