Bài báo này trình bày một số kết quả nghiên cứu chế tạo màng mỏng trong suốt ZnO: Ag (0% - 4%) trên đế thủy tinh hoặc Si, bằng phương pháp phún xạ . magnetron. Ảnh hưởng của 3 mức công suất phún xạ là 125W, 150W, 175W lên tính chất của màng mỏng chế tạo trong môi trường Ar ở áp suất cố định 1 Pa đã được khảo sát. Cấu trúc của màng mỏng được nghiên cứu bằng các phương pháp nhiễu xạ tia X và tán xạ Raman. Kết quả cho thấy màng thu được có độ kết tinh tốt, có thể ứng dụng trong lĩnh vực điện tử hoặc quang điện tử. | 32 Trần Thị Ngọc Anh . Tạp chí Khoa học và Công nghệ Đại học Duy Tân 4 47 2021 32-36 4 47 2021 32-36 Nghiên cứu cấu trúc của màng ZnO Ag chế tạo bằng phương pháp phún xạ . magnetron Study structure of ZnO Ag thin films prepared by magnetron sputtering Trần Thị Ngọc Anha Hồ Khắc Hiếub d Nguyễn Thị Diệu Thuc Nguyễn Thị Hồng Hạnha Trịnh Ngô Minh Thănga Phạm Nguyên Hảia Nguyễn Việt Tuyêna Trần Thị Hàa c Tran Thi Ngoc Anha Ho Khac Hieub d Nguyen Thi Dieu Thuc Nguyen Thi Hong Hanha Trinh Ngo Minh Thanga Pham Nguyen Haia Nguyen Viet Tuyena Tran Thi Haa c a Khoa Vật lý Đại học Khoa học Tự nhiên Đại học Quốc Gia Hà Nội 334 Nguyễn Trãi Thanh Xuân Hà Nội a Faculty of Physics Vietnam National University University of Science 334 Nguyen Trai Thanh Xuan Hanoi b Viện Nghiên cứu và Phát triển Công nghệ Cao Ðại học Duy Tân Ðà Nẵng Việt Nam b Institute of Research and Development Duy Tan University Da Nang 550000 Vietnam c Khoa Khoa học Cơ bản Đại học Mỏ - Địa chất 18 Phố Viên Bắc Từ Liêm Hà Nội c Faculty of Fundamental Science Hanoi University of Mining and Geology 18 Vien Street North Tu Liem Hanoi d Khoa Môi trường và Khoa Học Tự nhiên Đại học Duy Tân Đà Nẵng Việt Nam d Department of Environment and Natural Science Duy Tan University Danang Vietnam Ngày nhận bài 28 02 2021 ngày phản biện xong 22 3 2021 ngày chấp nhận đăng 09 5 2021 Tóm tắt Bài báo này trình bày một số kết quả nghiên cứu chế tạo màng mỏng trong suốt ZnO Ag 0 - 4 trên đế thủy tinh hoặc Si bằng phương pháp phún xạ . magnetron. Ảnh hưởng của 3 mức công suất phún xạ là 125W 150W 175W lên tính chất của màng mỏng chế tạo trong môi trường Ar ở áp suất cố định 1 Pa đã được khảo sát. Cấu trúc của màng mỏng được nghiên cứu bằng các phương pháp nhiễu xạ tia X và tán xạ Raman. Kết quả cho thấy màng thu được có độ kết tinh tốt có thể ứng dụng trong lĩnh vực điện tử hoặc quang điện tử. Từ khóa ZnO pha tạp Ag phún xạ Raman nhiễu xạ tia X. Abstract In this paper we report the results of preparation of transparent ZnO .
