Bài viết này nghiên cứu một số yếu tố ảnh hưởng đến tốc độ phản ứng phân huỷ 2,4-D và hiệu quả quá trình khoáng hoá thông qua chỉ số nhu cầu oxi hoá học (COD) và tổng hàm lượng cacbon hữu cơ trong dung dịch (TOC). | Hóa học amp Môi trường Nghiên cứu động học và khả năng khoáng hoá 2 4-dichlorophenoxyacetic trong môi trường nước bằng kỹ thuật điện hoá cao áp với sự xuất hiện plasma trên điện cực sắt Nguyễn Văn Hoàng1 Trần Văn Công 1 Nguyễn Lê Tú Quỳnh1 Trần Thị Ngọc Dung2 Nguyễn Đức Hùng2 1 Viện Công nghệ Mới Viện Khoa học và Công nghệ quân sự 2 Viện Công nghệ Môi trường Viện Hàn lâm Khoa học và Công nghệ Việt Nam. Email liên hệ tranvancong7902@. Nhận bài ngày 12 9 2021 Hoàn thiện ngày 10 11 2021 Chấp nhận đăng ngày 12 12 2021. DOI https TÓM TẮT Kỹ thuật plasma điện hoá cao áp với sự xuất hiện plasma trên điện cực sinh ra các gốc tự do hoạt động và các tác nhân oxi hoá như OH H2O2 O3 tia UV có khả năng phân huỷ hợp chất hữu cơ 2 4-dichlorophenoxyacetic 2 4-D trong môi trường nước. Bài báo này nghiên cứu một số yếu tố ảnh hưởng đến tốc độ phản ứng phân huỷ 2 4-D và hiệu quả quá trình khoáng hoá thông qua chỉ số nhu cầu oxi hoá học COD và tổng hàm lượng cacbon hữu cơ trong dung dịch TOC . Kết quả nghiên cứu cho thấy tốc độ phân huỷ 2 4-D phụ thuộc vào giá trị pH và độ dẫn điện. Giá trị COD giảm từ 106 0 mg L xuống còn 2 2 mg L. Tương tự giá trị TOC giảm từ 6 1 mg L xuống còn 2 1 mg L sau 120 phút phóng điện khả năng khoáng hoá thành CO2 đạt đến 65 6 . Từ khoá Plasma lạnh Điện một chiều cao áp Gốc tự do OH Xử lý 2 4-D Điện cực sắt. 1. MỞ ĐẦU Ngày nay công nghệ plasma lạnh được quan tâm nghiên cứu và sử dụng trong nhiều lĩnh vực trong đó có lĩnh vực xử lý môi trường 1 . Có nhiều các kỹ thuật khác nhau để tạo plasma lạnh như kỹ thuật phóng điện màn chắn DBD kỹ thuật phóng điện xung một chiều DC pulse kỹ thuật phóng điện xung xoay chiều AC pulse kỹ thuật điện một chiều cao áp DC kỹ thuật vi sóng microwave 2 . Quá trình hình thành plasma lạnh đã tạo ra các gốc tự do hoạt động như OH H O và các tác nhân có hoạt tính cao như H2O2 O3 O2 cũng như tia UV được sinh ra khi plasma xuất hiện. Trong đó gốc tự do hoạt động OH có thế oxi .
