Lecture ECE 6450 Microelectronic - Chapter 7: Lithography and pattern transfer

Lecture ECE 6450 Microelectronic - Chapter 7: Lithography and pattern transfer. After studying this section will help you understand PR pattern is same as mask. On exposure to light, light degrades the polymers (described in more detail later) resulting in the photoresist being more soluble in developers. The PR can be removed in inexpensive solvents such as acetone. |

Không thể tạo bản xem trước, hãy bấm tải xuống
TÀI LIỆU MỚI ĐĂNG
Đã phát hiện trình chặn quảng cáo AdBlock
Trang web này phụ thuộc vào doanh thu từ số lần hiển thị quảng cáo để tồn tại. Vui lòng tắt trình chặn quảng cáo của bạn hoặc tạm dừng tính năng chặn quảng cáo cho trang web này.