Lecture ECE 6450 Microelectronic - Chapter 11: Etching techniques

Lecture ECE 6450 Microelectronic - Chapter 11: Etching techniques. After studying this section will help you understand Anisotropy can depend on mean Increasing Mean Free Path free path, or on DC plasma bias. Increasing mean free path (generally) increases anisotropy. Increasing DC bias (generally) increases anisotropy. |

Không thể tạo bản xem trước, hãy bấm tải xuống
TÀI LIỆU MỚI ĐĂNG
Đã phát hiện trình chặn quảng cáo AdBlock
Trang web này phụ thuộc vào doanh thu từ số lần hiển thị quảng cáo để tồn tại. Vui lòng tắt trình chặn quảng cáo của bạn hoặc tạm dừng tính năng chặn quảng cáo cho trang web này.