Giới thiệu về ZnO nanorod

Trong vài thập niên trở lại đây nền khoa học và công nghệ trên thế giới đã đặc biệt chú ý đến vật liệu mà ở đó tính chất của chúng khác hẳn hoàn toàn so với tính chất của vật liệu dạng khối, đó là vật liệu nano. | Trong mục này chỉ nêu ra một cách khái quát về phương pháp tổng hợp. Theo phương pháp này người ta dùng miếng Si loại p để làm đế nền. Tiếp theo đó một lớp màng Ti với độ dầy khoảng 80 nm được phủ lên trên đế Si theo phương pháp phún xạ. Và tiếp theo quá trình tạo màng, một lớp đồng được phủ lên trên màng Ti theo phương pháp mạ. Như vậy có thể hiểu đơn thuần là lớp màng Ti ngăn sự tiếp xúc của lớp mạ đồng và đế Si. Vai trò của lớp đồng đối với sự phát triển của nanorod thì vẫn là điều bí ẩn. Chỉ biết rằng nó giúp cho tính định hướng phát triển cấu trúc một chiều hơn so với cấu trúc hai chiều. Các kết quả thực nghiệm đã chứng tỏ rằng quá trình tạo rod ZnO phụ thuộc rất nhiều vào độ nhám bề mặt của lớp đồng. Khi mà độ nhám bề mặt của lớp đồng nhỏ khoảng Ra= 15nm thì kết quả cho thấy rằng cấu trúc ZnO phát triển cấu trúc màng. Các rod ZnO phát triển tốt nhất thể hiện ở độ nhám bề mặt khoảng 45- 90 nm. Trong quá trinh lắng đọng áp xuất trong hệ được giữ ở Pa tới Pa, thời gian phún xạ khoảng 30 phút, khoảng cách đế và nguồn là 5 cm, thế cung cấp cho quá trình phún xạ là nguồn điện xoay chiều công xuất 100- 200 W. Bia kẽm sau khi được bắn phá các nguyên tử Zn bay lên phản ứng với khí Oxy tạo thành ZnO lắng đọng lên trên đế và phát triển cấu trúc nanorod. Chiều dài và đường kính trung bình của các nanorod gia tăng tuyến tính với thời gian lắng đọng.

Không thể tạo bản xem trước, hãy bấm tải xuống
TỪ KHÓA LIÊN QUAN
TÀI LIỆU MỚI ĐĂNG
21    14    1    27-06-2022
Đã phát hiện trình chặn quảng cáo AdBlock
Trang web này phụ thuộc vào doanh thu từ số lần hiển thị quảng cáo để tồn tại. Vui lòng tắt trình chặn quảng cáo của bạn hoặc tạm dừng tính năng chặn quảng cáo cho trang web này.