Báo cáo "FABRICATION OF HIGH-ASPECT-RATIO MICRO STRUCTURES USING UV-LIGA TECHNOLOGY "

VNU. JOURNAL OF SCIENCE, Mathematics - Physics, , n02, 2005 Nguyen Thi Minh Hanga,b, Chien-Hung Hoc, Vu Ngoc Hungb, Nguyen Phu Thuyb,d a d Center for Micro Electronic and Information Technology (IMET) International Training Institute for Materials Science (ITIMS) c Precision Instrument Development Center (PIDC) College of Technology, Vietnam National University, Hanoi (VNU) b Abstract. Thanks to almost transparent property of SU8 for wavelength of 365400nm, UV-LIGA technology using this photoresist has been applied to fabricate high-aspect-ratio (HAR) microstructures. This allows transferring patterns with vertical sidewall from masks to the photoresist. This paper introduces UV-LIGA and its application in fabricating comb drive structure for an angular.

Không thể tạo bản xem trước, hãy bấm tải xuống
TỪ KHÓA LIÊN QUAN
TÀI LIỆU MỚI ĐĂNG
3    253    1    07-06-2024
7    70    1    07-06-2024
Đã phát hiện trình chặn quảng cáo AdBlock
Trang web này phụ thuộc vào doanh thu từ số lần hiển thị quảng cáo để tồn tại. Vui lòng tắt trình chặn quảng cáo của bạn hoặc tạm dừng tính năng chặn quảng cáo cho trang web này.