Mạ NANO - Phần 1: Chế tạo màng từ điện tử trở đa lớp CuNiCo/Cu trên đế n-Si bằng phương pháp mạ xung dòng

Bài báo trình bày một số kết quả nghiên cứu về việc chế tạo lớp phủ đa lớp cấu trúc nano luân phiên từ tính CuNiCo/không từ tính Cu/CuNiCo. trên đế n-(100)Si từ một dung dịch duy nhất bằng phư ơng pháp mạ xung dòng hình chữ nhật. Việc lựa chọn các thông số xung dòng có ảnh hư ởng quyết định đến biến thiên từ điện trở MR của lớp phủ. Các nghiên cứu về cấu trúc (XRD, AMF, SEM) minh hoạ vi cấu trúc của lớp phủ có hiệu ứng MR tư ơng ứng.

Không thể tạo bản xem trước, hãy bấm tải xuống
TÀI LIỆU MỚI ĐĂNG
127    105    2    26-06-2024
Đã phát hiện trình chặn quảng cáo AdBlock
Trang web này phụ thuộc vào doanh thu từ số lần hiển thị quảng cáo để tồn tại. Vui lòng tắt trình chặn quảng cáo của bạn hoặc tạm dừng tính năng chặn quảng cáo cho trang web này.