Tailoring optical and resistance properties of the functional CuAlxOy semiconductor for applications as thermal infrared imagers

This is the first report on the optical and resistance properties of copper aluminum oxide thin films for applications as thermal infrared imagers. The deposition of these films was investigated under three series of reactive magnetron sputtering conditions. |

Không thể tạo bản xem trước, hãy bấm tải xuống
TỪ KHÓA LIÊN QUAN
TÀI LIỆU MỚI ĐĂNG
Đã phát hiện trình chặn quảng cáo AdBlock
Trang web này phụ thuộc vào doanh thu từ số lần hiển thị quảng cáo để tồn tại. Vui lòng tắt trình chặn quảng cáo của bạn hoặc tạm dừng tính năng chặn quảng cáo cho trang web này.