Đang chuẩn bị liên kết để tải về tài liệu:
Demonstration on ferroelectric-gate thin film transistor NAND-type array with disturbance free operation

Không đóng trình duyệt đến khi xuất hiện nút TẢI XUỐNG

A novel concept of NAND memory array has been proposed by using only ferroelectricgate thin film transistors (FGTs), whose structure is constructed from a sol-gel ITO channel and a sol-gel stacked ferroelectric between Bi3.25La0.75Ti3O12 and PbZr0.52TiO0.48O3 (BLT/PZT) gate insulator. | Demonstration on ferroelectric-gate thin film transistor NAND-type array with disturbance free operation

Đã phát hiện trình chặn quảng cáo AdBlock
Trang web này phụ thuộc vào doanh thu từ số lần hiển thị quảng cáo để tồn tại. Vui lòng tắt trình chặn quảng cáo của bạn hoặc tạm dừng tính năng chặn quảng cáo cho trang web này.