Đang chuẩn bị liên kết để tải về tài liệu:
Electrodeposition of Co thin Film onto n-Si(111)/Au substrate

Không đóng trình duyệt đến khi xuất hiện nút TẢI XUỐNG

Electrodeposition kinetics of Co thin film were investigated and magnetic coercivity of the deposited films were studied using potentiostatic technique and magnetic hyteresis loop measurements. Results showed that the nucleation mechanism of the electrodeposition process changed from instantaneous mode to progressive mode when potential was changed from –0.7 V to –0.8 V. The magnetic coercivity Hc increases with deposition time and the film with Hc < 15 Oe can be obtained with deposition time t < 5 s.

Đã phát hiện trình chặn quảng cáo AdBlock
Trang web này phụ thuộc vào doanh thu từ số lần hiển thị quảng cáo để tồn tại. Vui lòng tắt trình chặn quảng cáo của bạn hoặc tạm dừng tính năng chặn quảng cáo cho trang web này.