Đang chuẩn bị liên kết để tải về tài liệu:
Phún xạ phần 1

Không đóng trình duyệt đến khi xuất hiện nút TẢI XUỐNG

Phún xạ (tiếng Anh: Sputtering) hay Phún xạ catốt (Cathode Sputtering) là kỹ thuật chế tạo màng mỏng dựa trên nguyên lý truyền động năng bằng cách dùng các iôn khí hiếm được tăng tốc dưới điện trường bắn phá bề mặt vật liệu từ bia vật liệu, truyền động năng cho các nguyên tử này bay về phía đế và lắng đọng trên đế. | Phún xạ Lê Tuấn Đại học Bách khoa Hà Nội Phún xạ tiếp Sơ đồ hệ thống thiết bị phún xạ Nước làm lạnh IkV Súng ion Bia Nguyên tử phún xạ Nguyên tử Ar nhanh Nguyên tử phún xạ ngược Mâm đỡ bằng Cu Plasma Ar a 2 2 2006 Đại học Bách khoa Hà Nội 2 Phún xạ tiếp Sơ đồ bố trí các bộ phận thiết bị phún xạ Bơm chân không 2 2 2006 Đại học Bách khoa Hà Nội

TÀI LIỆU LIÊN QUAN

Phún xạ phần 1

Phún xạ phần 2

Phún xạ phần 3

Chế tạo và khảo sát ảnh hưởng của nhiệt độ đến các đặc trưng của màng SnO được chế tạo bởi phương pháp phún xạ phản ứng magnetron DC

Bài thuyết trình Màng từ

Thiết bị đo mức Cường độ UV của mặt trời dùng Sensor Nano TiO2 chế tạo bằng phương pháp phun nhiệt phân

Nghiên cứu chế tạo vật liệu nano composites PVDF/CNTs bằng phương pháp phun tĩnh điện (electrospinning)

Nghiên cứu chế tạo màng TiN bằng phương pháp phún xạ phản ứng Magnetron DC

Báo cáo khoa học: Ảnh hưởng của nhiệt độ đế lên cấu trúc và tính chất điện của màng dẫn điện trong suốt SnO2:Sb được chế tạo bằng phương pháp phún xạ Magnetron phản ứng

Nghiên cứu chế tạo màng mỏng chống mài mòn TiZrN bằng phương pháp phún xạ phản ứng magnetron RF
Đã phát hiện trình chặn quảng cáo AdBlock
Trang web này phụ thuộc vào doanh thu từ số lần hiển thị quảng cáo để tồn tại. Vui lòng tắt trình chặn quảng cáo của bạn hoặc tạm dừng tính năng chặn quảng cáo cho trang web này.