Đang chuẩn bị liên kết để tải về tài liệu:
ENCYCLOPEDIA O FMATERIALS CHARACTERIZATIONC phần 8

Một số các thông số phân tích điển hình là có nghĩa là bán kính 25 mm, chiều rộng khe 0,1 mm, và năng lượng vượt qua 0,5 eV. lọc cũng bao gồm các bổ sung song song trụ và các vật liệu bán dẫn, và trong các lĩnh vực khác nhau như vật lý, khảo cổ học, sinh học và địa chất. | 3 H. H.Brongersma andT. M. Buck. Nitcl. Instr. Meth. 132 559 1976. 4 M. A. Wheeler. Anal. Chem. 47 146 1975. 5 E. N. Haussler. Surf. Interface Anal. 1979. 6 G. c. Nelson. Anal. Chem. 46 13 2046 1974. 7 G. R. Sparrow. Relative Sensitivities for ISS. Available from Advanced R D 245 E. 6th St. St. Paul MN 55010. 8 T. w. Rusch and R. L. Erickson. Energy Dependence of Scattered Ion Yields in ISS. J. Vac. Sci. Technol. 13 374 1976. 9 D. L. Christensen V. G. Mossoti T. w. Rusch and R. L. Erickson. Chem. Phys. Lett. 44 8 1976. 10 w. Heiland. Electron Fisc. Applic. 17 1974. Covers further basic principles of ISS. 11 D.p. Smith. Surface Sci. 25 171 1971. 9.4 ISS 525 10 MASS AND OPTICAL SPECTROSCOPIES 10.1 Dynamic Secondary Ion Mass Spectrometry Dynamic SIMS 532 10.2 Static Secondary Ion Mass Spectrometry Static SIMS 549 10.3 Surface Analysis by Laser Ionization SALI 559 10.4 Sputtered Neutral Mass Spectrometry SNMS 571 10.5 Laser Ionization Mass Spectrometry LIMS 586 10.6 Spark-Source Mass Spectrometry SSMS 598 10.7 Glow-Discharge Mass Spectrometry GDMS 609 10.8 Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry ICPMS 624 10.9 Inductively Coupled Plasma-Optical Emission Spectroscopy ICP-Optical 633 10.0 INTRODUCTION The analytical techniques covered in this chapter are typically used to measure trace-level elemental or molecular contaminants or dopants on surfaces in thin films or bulk materials or at interfaces. Several are also capable of providing quantitative measurements of major and minor components though other analytical techniques such as XRF RBS and EPMA are more commonly used because of their better accuracy and reproducibility. Eight of the analytical techniques covered in this chapter use mass spectrometry to detect the trace-level components while the ninth uses optical emission. All the techniques are destructive involving the removal of some material from the sample but many different methods are employed to remove material and introduce it into the analyzer. .