Đang chuẩn bị liên kết để tải về tài liệu:
Lecture ECE 6450 Microelectronic - Chapter 10: Vacuum technology and plasmas

Không đóng trình duyệt đến khi xuất hiện nút TẢI XUỐNG

Lecture ECE 6450 Microelectronic - Chapter 10: Vacuum Technology and plasmas. After studying this section will help you understand deposition techniques such as evaporation, sputtering, , plasma processing, chemical vapor deposition, molecular beam epitaxy, etc , we must first have a grasp of the manner in which vacuum and gases flow. Thus, we will begin with a discussion of vacuum physics and vacuum techniques. |

TÀI LIỆU LIÊN QUAN

Lecture ECE 6450 Microelectronic - Chapter 13&14: Thin film deposition and epitaxy (Chemical vapor deposition, metal organic CVD and molecular beam epitaxy)

Lecture ECE 6450 Microelectronic - Chapter 2: Semiconductor substrates

Lecture ECE 6450 Microelectronic - Chapter 3: Diffusion

Lecture ECE 6450 Microelectronic - Chapter 4: Oxidation (applies to Si and SiC only)

Lecture ECE 6450 Microelectronic - Chapter 5: Ion implantation

Lecture ECE 6450 Microelectronic - Chapter 6: Rapid thermal processing

Lecture ECE 6450 Microelectronic - Chapter 7: Lithography and pattern transfer

Lecture ECE 6450 Microelectronic - Chapter 8: Photoresists and non-optical lithography

Lecture ECE 6450 Microelectronic - Chapter 10: Vacuum technology and plasmas

Lecture ECE 6450 Microelectronic - Chapter 11: Etching techniques
Đã phát hiện trình chặn quảng cáo AdBlock
Trang web này phụ thuộc vào doanh thu từ số lần hiển thị quảng cáo để tồn tại. Vui lòng tắt trình chặn quảng cáo của bạn hoặc tạm dừng tính năng chặn quảng cáo cho trang web này.