Bài viết Ảnh hưởng của plasma lạnh ở áp suất thường đến khả năng tiêu diệt nấm men nghiên cứu mô hình xử lý dụng cụ y tế bằng công nghệ Plasma lạnh được thiết kế và chế tạo để khắc phục nhược điểm trên. | Tạp Chí Khoa Học Giáo Dục Kỹ Thuật 25 2013 57 Trường Đại Học Sư Phạm Kỹ Thuật TP. Hồ Chí Minh ẢNH HƯỞNG CỦA PLASMA LẠNH Ở ÁP SUẤT THƯỜNG ĐẾN KHẢ NĂNG TIÊU DIỆT NẤM MEN EFFECTS OF COLD-PLASMA ON ATMOSPHERIC PRESSURE ON KILLING OF YEAST Thái Văn Phước Trần Ngọc Đảm Trường Đại Học Sư Phạm Kỹ Thuật TÓM TẮT Phương pháp khử khuẩn y tế hiện nay chủ yếu là dùng hóa chất và nhiệt độ tuy nhiên các phương pháp này có nhiều nhược điểm. Cụ thể việc dùng nhiều hóa chất sẽ gây ô nhiễm môi trường và ảnh hưởng đến sức khỏe con người thời gian xử lý kéo dài còn đối với sử dụng nhiệt độ cao chỉ phù hợp với các dụng cụ chịu nhiệt. Do vậy trong nghiên cứu này mô hình xử lý dụng cụ y tế bằng công nghệ Plasma lạnh được thiết kế và chế tạo để khắc phục nhược điểm trên. Ưu điểm của mô hình là sử dụng trực tiếp tia Plasma để xử lý nên giảm được thời gian xử lý không gây ô nhiễm. Mô hình sử dụng khí Argon tạo ra môi trường Plasma và khảo sát khả năng khử khuẩn trên nấm men-Saccharomyces cerevisiae. Qua kết quả thí nghiệm cho thấy rằng Plasma lạnh có khả năng tiêu diệt nấm men hiệu suất xử lý phụ thuộc lớn vào thời gian xử lý tốc độ 58 Tạp Chí Khoa Học Giáo Dục Kỹ Thuật 25 2013 Trường Đại Học Sư Phạm Kỹ Thuật TP. Hồ Chí Minh I. GIỚI THIỆU sử dụng trực tiếp tia Plasma lên vi khuẩn. Tại mỗi bệnh viện dụng cụ y tế dụng cụ tái Trong bài viết này tác giả đưa ra một mô sử dụng sau khi sử dụng phải được làm sạch hình xử lý mới xử lý trực tiếp bằng tia và chuyển sang Khoa chống nhiễm khuẩn. Plasma ở nhiệt độ thấp. Tại đây các dụng cụ y tế chủ yếu được xử lý Plasma là trạng thái thứ tư của vật chất theo hai phương pháp được ngâm trong các chứa các ion dương electrons nguyên tử dung dịch hóa chất liều cao hoặc được hấp hay phân tử khí trung tính tia UV và các ướt ở thiệt độ cao 1210C phương pháp nguyên tử phân tử ở trạng thái kích thích. nhiệt. Nhược điểm lớn của các phương pháp Plasma chứa một lượng năng lượng lớn dưới trên phải xử lý lại các dung dịch hóa chất dạng động năng của electrons .
