Static and dynamic characteristics of Lg 50 nm InAlN/AlN/GaN HEMT with AlGaN back-barrier for high power millimeter wave applications

A novel 50 nm recessed T-gate AlN spacer based InAlN/GaN HEMT with AlGaN back-barrier is designed. The static and dynamic characteristics of the proposed device structure are investigated using Synopsys TCAD tool. |

Không thể tạo bản xem trước, hãy bấm tải xuống
TỪ KHÓA LIÊN QUAN
TÀI LIỆU MỚI ĐĂNG
Đã phát hiện trình chặn quảng cáo AdBlock
Trang web này phụ thuộc vào doanh thu từ số lần hiển thị quảng cáo để tồn tại. Vui lòng tắt trình chặn quảng cáo của bạn hoặc tạm dừng tính năng chặn quảng cáo cho trang web này.