New insights into CoFe/n-Si interfacial structure as probed by X-ray photoelectron spectroscopy

X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) is a well known tool in studying the physical and chemical properties of surface/interfaces which provides the element specific, non-destructive and quantitative information. In the present study, information about the surface chemical states of interfacial structure of CoFe thin films on n-Si substrates has been studied from XPS technique. |

Không thể tạo bản xem trước, hãy bấm tải xuống
TỪ KHÓA LIÊN QUAN
TÀI LIỆU MỚI ĐĂNG
46    110    4    27-04-2024
Đã phát hiện trình chặn quảng cáo AdBlock
Trang web này phụ thuộc vào doanh thu từ số lần hiển thị quảng cáo để tồn tại. Vui lòng tắt trình chặn quảng cáo của bạn hoặc tạm dừng tính năng chặn quảng cáo cho trang web này.