Si nanowires grown by Al-catalyzed plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) on quartz substrates for solar cell applications

In this work, we have use a plasma-enhanced chemical vapor deposition process (PECVD) to grow the SiNWs from Al thin films directly deposited on quartz substrates, the Al-catalyzed SiNWs thus obtained have been characterized by scanning electron microscopy (SEM), transmission electron microscopy (TEM) and electrical measurements, including field- effect transistor evaluations. |

Không thể tạo bản xem trước, hãy bấm tải xuống
TÀI LIỆU MỚI ĐĂNG
112    400    12    27-04-2024
Đã phát hiện trình chặn quảng cáo AdBlock
Trang web này phụ thuộc vào doanh thu từ số lần hiển thị quảng cáo để tồn tại. Vui lòng tắt trình chặn quảng cáo của bạn hoặc tạm dừng tính năng chặn quảng cáo cho trang web này.